ZEM18 台式扫描电镜以其先进的技术参数，为半导体光刻工艺的精准调控提供了可靠支撑。设备搭载的预对中钨灯丝系统，在 3-18kV 宽域加速电压范围内可实现 1kV 步进的精细调节，配合 200,000 倍放大能力，能够在微米至纳米尺度直接刻画光刻胶层的微观结构。90 秒快速抽真空设计与 10M 信号采集带宽，确保成像过程快速流畅，无拖影重影干扰，而 SE、BSE、EDS 多信号探测器的灵活选配，更可满足形貌分析、成分溯源的多元需求。
在光刻工艺检测中，ZEM18 的核心价值体现在对光刻胶层的高分辨表征。通过 SE 信号成像，可清晰观测光刻胶侧壁的陡直度、粗糙度及断口形态 —— 例如判断曝光量不足导致的胶层塌陷，或显影过度引发的线条边缘锯齿状缺陷。结合 EDS 能谱分析，还可定量检测光刻胶残留的化学组分（如曝光后酸扩散均匀性），辅助优化曝光剂量与显影时间参数。对于先进制程中的多重曝光工艺，ZEM18 通过 BSE 信号的原子序数衬度，精准区分不同膜层界面（如硬掩模与光刻胶的边界），为套刻精度的提升提供微观数据支撑。
此外，ZEM18 兼容原位加热台等附件，可模拟光刻胶固化过程中的温度场变化，实时观测胶层结构演变，为工艺窗口的拓展提供动态数据。其低维护成本与便捷操作特性（用户可自行更换灯丝），使半导体企业能够以更低门槛建立光刻工艺的微观检测能力，从源头控制图案转移的精度，助力先进制程的良率提升与技术迭代。
深耕行业二十三载的佛山翁开尔，始终致力于为纺织企业提供先进的检测解决方案与技术支持。其服务网络覆盖全国二十余个省份，依托专业团队为客户提供仪器安装、操作培训与定期维护服务，确保ZEM18台式扫描电镜在研发与生产环节持续发挥效能。
