光刻机巨头阿斯麦下调 2025 年销售预期，股价暴跌 16%

01月28日阿斯麦ASML光刻机0评

消息称三星电子 2025 年初引进其首台 ASML High NA EUV 光刻机

01月28日三星电子ASML先进制程HighNAEUV光刻机0评

TechInsights：预计 ASML High NA EUV 光刻机功耗约 1400 千瓦

01月28日ASMLEUV光刻机TechInsights0评

在 AI 需求的推动下，ASML 预计 2030 年销售额达到 440 亿至 600 亿欧元

01月28日ASML光刻机0评

Rapidus 接收日本首台量产用 EUV 光刻机 ASML NXE:3800E

01月28日ASML光刻机Rapidus0评

因需求过高，ASML 取消非员工订购的 High-NA EUV 光刻机乐高模型

01月28日光刻机阿斯麦乐高0评

消息称台积电今明两年将接收超 60 台 EUV 光刻机，相关投资超四千亿新台币

01月28日台积电光刻机ASML0评

台积电：仍在评估 High NA EUV 光刻机，采用时间未定

01月28日光刻机ASML台积电0评

英特尔计划与日本 AIST 合作建立芯片研究中心

01月28日英特尔EUV光刻机0评

尼康官宣旗下首款半导体后端工艺用光刻机：1.0μm 分辨率，2026 财年发售

01月28日尼康光刻机FOPLP先进封装后端工艺0评